~車の自動運転の実現は、2㌨㍍の細い線幅の半導体で~
2020.10.24 週刊東洋経済
≪半導体の技術革新で最重要:EUV(極端紫外線)露光≫
💎 半導体の技術革新で、現在最も重要なのは、EUV(極端紫外線)露光だ。
★ EUV(極端紫外線)露光は線幅を細くしてチップ当たりの回路を増やす微細化を進めるために欠かせない技術。露光工程の装置だけでなく、感光剤であるレジストや、その塗布、露光後の不要物除去といった周りの工程にも影響を及ぼしている。
≪半導体の製造工程≫
ウエハー製造 ⇒ 成膜 ⇒ レジスト塗布 ⇒ フォトマスク製造
⇒ 露光 ⇒エッチング ⇒ 洗浄 ⇒ 平坦化 ⇒ウェハー検査
≪半導体の超微細化≫
2020.11.10 週刊エコノミスト
氏原 義郭氏(SBI証券 シニアアナリスト)
💎 2時間の映画を2秒でダウンロードできる5G(第5世代無線通信)社会が近づいている。現在、5G対応スマートフォンで最上位機種に搭載されたCPU(中央演算ッ処理装置)は1秒間に15兆回演算処理する。これは半導体装置の最先端技術であるEUV(極端紫外線)露光を使い7㌨㍍の線幅で作られる。
💎 車の自動運転実現には、毎秒100兆回の演算処理が必要で2㌨㍍程度の細い線幅で半導体を作る必要があると考えられている。
💎2020年8月、半導体受託大手の台湾TSMCが2㌨㍍量産工場建設の準備に入ったと発表した。2024年ごろには2㌨㍍時代が到来しそうだ。